EUV-Lithografie: ASML beschießt Zinntropfen künftig 300.000-mal pro Sekunde from heise online News on 2026-02-24 12:43 (#73SR8) Belichtungssysteme von ASML sollen 2030 rund 50 Prozent mehr Wafer belichten konnen als bisher. Das erfordert komplexe Technik.
